第七屆國際先進光刻技術研討會在麗水舉行
10月25日,第七屆國際先進光刻技術研討會(hui) 在麗(li) 水開幕,來自國內(nei) 外的數百名行業(ye) 大咖、著名企業(ye) 家、專(zhuan) 家學者等齊聚一堂,共商發展大計,共謀美好未來。
國際先進光刻技術研討會(hui) 為(wei) 來自國內(nei) 外半導體(ti) 工業(ye) 界、學術界的資深技術專(zhuan) 家和優(you) 秀研究人員等提供了一個(ge) 技術交流平台,參會(hui) 者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優(you) 化等主題分享各自的研究成果,探討圖形化解決(jue) 方案,研討即將麵臨(lin) 的技術挑戰。
國際先進光刻技術研討會(hui) 已連續舉(ju) 辦六屆,2023年在麗(li) 水舉(ju) 辦第七屆。近年來,麗(li) 水經開區大力實施“雙招雙引”戰略性先導工程,以超常規的力度培育特色半導體(ti) 、精密製造、健康醫藥、時尚產(chan) 業(ye) 、數字經濟五大產(chan) 業(ye) ,搶抓國家集成電路產(chan) 業(ye) 發展窗口機遇,創新“基金招商、產(chan) 業(ye) 鏈招商、以商招商”等方式,短短四年“無中生有”培育形成特色半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 集群,成功納入浙江省促進集成電路發展規劃,麗(li) 水特色半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 平台列入浙江省“萬(wan) 畝(mu) 千億(yi) ”新產(chan) 業(ye) 平台,打造了以半導體(ti) 材料為(wei) 重點的產(chan) 業(ye) 集聚區,形成了“一園一鏈兩(liang) 基地”的發展格局。
截至目前,麗(li) 水經開區累計落地半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 項目33個(ge) ,總投資近600億(yi) 元,形成以“功率器件半導體(ti) 生產(chan) +超薄背道代工”為(wei) 主幹,以“矽晶圓材料+特種材料”為(wei) 基礎,延伸至半導體(ti) 設備、芯片設計、封裝測試全產(chan) 業(ye) 鏈,形成緊密協同的集聚發展態勢和開放包容富有活力的產(chan) 業(ye) 鏈生態,業(ye) 內(nei) 稱之為(wei) “Smart-IDM”麗(li) 水模式;計劃到2030年,引進100家以上半導體(ti) 企業(ye) ,實現產(chan) 值1000億(yi) 元以上。
研討會(hui) 現場,來自先進光刻及相關(guan) 技術領域的國內(nei) 外資深專(zhuan) 家和學者分享了當前光刻技術發展現狀、研發成果以及未來發展趨勢等,為(wei) 助推我國集成電路產(chan) 業(ye) 高質量發展指點迷津,也為(wei) 麗(li) 水市特色半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 跨越式高質量發展提供更為(wei) 廣闊的發展思路,推動產(chan) 業(ye) 實現優(you) 化提升。
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